誘導加熱グラファイトカーボン

説明

高周波誘導加熱装置による誘導加熱グラファイトカーボン

目的 カーボン・グラファイト陽極を加熱して部品を破壊的に酸化させ、埋め込まれた汚染物質を処理する。
アノード材質 2.5 x 2.5 x 4 (63 x 63 x 102) 高さ x 幅 x 奥行き インチ(mm)
温度 1900 °F 1000°C
周波数 30 kHz
装置 DW-MF-20kW誘導加熱システム、カスタムマルチターンヘリカルコイル、4キャップ1.0μFワークヘッド
プロセス エアパージシステムは、ヒートサイクル中に部品に新鮮な空気(~25 f3/hr)を供給し、陽極表面との接触を最大化するために旋回作用を与えるために使用される。
陽極は誘導加熱コイル内に置かれ、1000℃まで加熱される。2.5時間後、陽極は約0.375インチの直径に燃焼する。
パイロメーター/コントローラーは、陽極が小さくなるにつれて一定の温度を提供するために使用される。
結果/利点 誘導加熱により、このプロセスは非常に効率的で制御可能である。

誘導加熱グラファイトカーボン

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