ナノ粒子溶液を40℃に上昇させるために誘導加熱する。
誘導加熱 は、ナノ粒子に高強度磁場を与えて集中的かつ標的化された治療を実現する便利で柔軟な方法で、医学研究界で大きな関心を呼んでいる。 誘導加熱システム ハイパーサーミアでは、実験室内で交番磁場を発生させ、試験管内または（動物実験では）生体内でナノ粒子溶液の温度を上昇させ、管理するために使用される。
当社のナノ粒子誘導加熱システムは、1 kW～10 kWの正確な調整可能なパワーレベルと150 kHz～400 kHzの設定可能な周波数範囲を提供し、お客様の研究パワーと周波数のニーズを満たすことができます。最大125kA/mの磁場強度が得られます。
目的
ナノ粒子溶液を加熱し、少なくとも40℃まで上昇させる。
材料 - 顧客提供のナノ粒子溶液
温度：104 ºF (40 ºC)の上昇
頻度： 217 kHz
装置 - DW-UHF-5kW 150-400 kHz誘導加熱システム、2個の0.3 µFコンデンサーを含む遠隔加熱ステーションを装備
- シングルポジション7.5回転ヘリカル 誘導加熱コイル このアプリケーションのために特別に設計・開発された
誘導加熱プロセス：
顧客は7つのサンプルを提供し、温度が周囲温度から40℃上昇するかどうかを10分間テストした。試験中、ナノ粒子溶液の温度は23.5 ºCから始まり、65.4 ºCで終了しました。
結果は濃度と粒子の種類に依存する。クライアントが将来、より大規模な試験が必要になると考えた場合、10kWのUHFはナノ粒子試験の成長に大きな余地を与えるだろう。
結果／メリット
- スピード：誘導加熱は、顧客の要求を満たすソリューションを急速に加熱した。
- 均一な加熱：正確な温度制御による誘導の迅速で均一な加熱は、ナノ粒子の加熱に理想的です。
- 再現性：誘導加熱の結果は予測可能で再現性がある。
- 携帯性：UHF誘導加熱システムは小型なので、ラボ内を簡単に移動できます。
